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精密拋光機(jī)故障排查指南：常見(jiàn)問(wèn)題與處理方案
202610-14

精密零部件表面精加工工序中，操作參數(shù)不當(dāng)、耗材老化容易造成工件表面出現(xiàn)劃痕、塌邊等缺陷，降低成品合格率。精密拋光機(jī)依靠磨料與工件之間的微量磨削作用完成表面精加工，是光學(xué)、半導(dǎo)體零部件加工車間常用加工設(shè)備。熟悉設(shè)備使用階段的常見(jiàn)故障與處置方案，能夠幫助操作人員快速排查異常狀況，保障精密拋光機(jī)穩(wěn)定加工滿足表面質(zhì)量要求的工件。1、工件表面出現(xiàn)細(xì)微劃痕拋光后工件表面產(chǎn)生劃痕，大多是拋光液混入硬質(zhì)顆粒、拋光...

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  • 一次離子可能受到樣品表面的背散射，也有部分進(jìn)入樣品表面，這部分離子把能量傳遞給晶格，當(dāng)入射能量大于晶格對(duì)原子的束縛能是，部分原子脫離晶格向表面運(yùn)動(dòng)，并且產(chǎn)生原子間的級(jí)聯(lián)碰撞，當(dāng)這一能量傳遞到表面，并且大于表面的束縛能時(shí)，飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜...

    2016-10-20

  • 精密研磨拋光夾具在含有磨料的研拋液中緊壓在工件被加工表面上作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，工件由工作臺(tái)帶動(dòng)作縱向往復(fù)運(yùn)動(dòng)、使得磨具在工件表面形成極其復(fù)雜、均勻而又細(xì)密的運(yùn)動(dòng)軌跡。由于該技術(shù)同時(shí)具有研磨、拋光和超精加工的特點(diǎn)，因此稱為超精研拋技術(shù)。在研磨過(guò)程...

    2016-10-11

  • 全自動(dòng)碳氮同位素質(zhì)譜儀可對(duì)溫度,海拔,鹽度補(bǔ)償,自動(dòng)錄入功能可以使使用者調(diào)出之前的測(cè)量值。它是先使樣品中的分子或原子電離，形成各同位素的相似離子，然后在電場(chǎng)、磁場(chǎng)的作用下，使不同質(zhì)量與電荷之比的離子流分開(kāi)進(jìn)行檢測(cè)。若用照相底板攝像檢測(cè)。將離...

    2016-09-27

  • 薄片制備系統(tǒng)可以增強(qiáng)生產(chǎn)運(yùn)行的性，滿足市場(chǎng)需求，保持競(jìng)爭(zhēng)的地位，并獲得zui大利潤(rùn)，首產(chǎn)效率對(duì)企業(yè)是非常重要的，其次整個(gè)系統(tǒng)的穩(wěn)定性和故障的及時(shí)發(fā)現(xiàn)和排除也非常重要，停產(chǎn)一分鐘對(duì)煙廠所帶來(lái)的損失是巨大的。所以該論文中的設(shè)計(jì)思想和方法都應(yīng)用了...

    2016-09-19

  • 8月16日1時(shí)40分，我國(guó)在酒泉衛(wèi)星發(fā)射中心用長(zhǎng)征二號(hào)丁運(yùn)載火箭成功將世界首顆量子科學(xué)實(shí)驗(yàn)衛(wèi)星“墨子號(hào)”（簡(jiǎn)稱“量子衛(wèi)星”）發(fā)射升空。此次發(fā)射任務(wù)的圓滿成功，標(biāo)志著我國(guó)空間科學(xué)研究又邁出重要一步。中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所研制的量子衛(wèi)星全部...

    2016-08-19

  • 英國(guó)logitech公司成立于1965年，具有*的材料表面精密加工處理領(lǐng)域的*水平。logitech公司一直致力于在半導(dǎo)體材料加工、光電器件制備、光學(xué)材料處理、地址薄片制備、材料的測(cè)試與測(cè)量及工藝探究等多領(lǐng)域提供的解決方案和先進(jìn)的。近日，l...

    2016-08-17

  • 薄片制備系統(tǒng)是一種薄片類介質(zhì)分離機(jī)構(gòu)及其控制方法和控制系統(tǒng)，其在當(dāng)前被分離出來(lái)介質(zhì)頭部到達(dá)分鈔輪，前方的預(yù)設(shè)調(diào)速區(qū)間前界且當(dāng)前被分離出來(lái)，介質(zhì)尾部離開(kāi)分鈔輪上的預(yù)設(shè)調(diào)速區(qū)間后界時(shí)，調(diào)節(jié)分鈔輪電機(jī)與分鈔后動(dòng)力輪電機(jī)的相對(duì)速度，使得當(dāng)前被分離出...

    2016-08-10

  • 化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備了一場(chǎng)新的拋光技術(shù)革命，單純的化學(xué)拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機(jī)械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深；而化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備在進(jìn)...

    2016-07-28

  • 由透射電鏡的工作原理可知，供透射電鏡分析的樣品必須對(duì)電子束是透明的，通常樣品觀察區(qū)域的厚度以控制在約100-200nm為宜。薄片制備系統(tǒng)所制得的樣品還必須具有代表性以真實(shí)反映所分析材料的某些特征，因此，樣品制備時(shí)不可影響這些特征，如已產(chǎn)生影...

    2016-07-18

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